VIII
конференция |
[Раздел
I] [Раздел II] [Раздел
III] [Раздел IV]
Раздел I. Тонкие пленки в электронике
А.И.Зубков, А.И.Ильинский, В.С.Коган,
В.М.Шулаев, О.А.Подгорная, А.В.Субботин. Дисперсноупрочненные субмикрокристаллические
композиционные вакуумные конденсаты на основе меди.
Вакуумной конденсацией на ситалловые подложки двухкомпонентных
паровых смесей на основе меди, легированных тугоплавким металлом (Mo,
W, Ta), получены субмикрокристаллические (СМК) композитные фольги.
Методами рентгендифрактометрии, электронографии, просвечивающей электронный
микроскопии исследована структура. Концентрация легирующих элементов
определена рентгенфлуоресцентным спектральным анализом. Измерены механические
свойства и электросопротивление СМК-композитов. Обнаружен пик дисперсионного
твердения в процессе термообработки.
В.В.Дворкин, Н.Н.Дзбановский, В.В.Сень, Н.В.Суетин.
Масштабируемая многомагнетронная установка для осаждения тонких пленок
из газовой фазы СВЧ разряда.
Предлагается новый подход к решению проблемы роста
тонких плёнок на больших (более 15 см. в диаметре) поверхностях. Разработан
метод создания масштабируемого плазменного реактора для получения
тонких пленок большого размера из газовой фазы СВЧ разряда, возбуждаемого
системой последовательно запускаемых магнетронов. Каждый магнетрон
зажигает разряд на своей части поверхности. Увеличивая число магнетронов,
возможно получить слой плазмы на необходимой площади, что является
необходимым условием роста однородных тонких плёнок. На созданной
установке продемонстрирована возможность создания однородной плазмы
на площади диаметром 25 см.
В.В.Наумов, В.Ф.Бочкарев, А.А.Горячев, А.С.Куницын.
Исследование влияния ионной бомбардировки на рост плёнок ниобия.
Исследовано влияние ионной бомбардировки в процессе
роста пленок ниобия на их кристаллическую структуру. Пленки получены
ВЧ магнетронным распылением, ионная бомбардировка осуществлялась перпендикулярно
поверхности подложки за счет подачи на подложку отрицательного напряжения
смещения. Показано, что при росте ниобия на аморфной подложке с одновременной
ионной бомбардировкой в пленке формируется аксиальная текстура (110).
Степень кристалличности возрастает с ростом смещения от 0 до -50 В
и ухудшается с дальнейшим ростом смещения. Установлено, что использование
смещения при росте Nb на подложках Al2O3 нагретых до температуры 500ОС
приводит к образованию двухосевой текстуры (110), в то время как без
смещения пленки растут поликристаллическими.
О.А.Петрова, Н.В.Каледенкова, В.В.Зайцев.
Электрофизические свойства тонких пленок упорядоченных фосфолипидов.
В результате работы установлено влияние поверхностных
свойств подложки на электропроводность жидкокристаллической системы
- водного раствора лецитина. Показана связь структурируемости с электрическими
характеристиками жидкого кристалла. Установленно наличие электродинамической
неустойчивости в исследуемом жидком кристалле при определенных условиях.
Е.В.Булыгина, А.В.Осипов, Ю.В.Панфилов. Исследование
микротвёрдости
многослойных плёнок нанометровой толщины.
Представлены результаты экспериментальных исследований
механических свойств сверхтонких пленок Al, Cu, Ti, Nb, сформированных
на алюминиевой основе методами термического и дугового испарения.
Получены экспериментальные значения твердости композиций Al-Al, Al-Cu,
Al-Ti, Al-Nb для различных толщин пленок и расчетные значения твердости
нанопленок.
И.В.Слободчикова, Ю.В.Панфилов. Перспективы
нанесения тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала.
Проведен анализ изделий на основе фотонных кристаллов
и возможностей технологии тонких пленок для их изготовления. Проведена
оценка проводимости каналов, образованных глобулами опаловой матрицы.
Приведены результаты расчетов проводимости и экспериментов по нанесению
тонких пленок на подложки из синтетического опала.
А.И.Беликов, А.Н.Гацан. Влияние магнитного
поля на приборотехнические свойства тонкопленочных WS2, формируемого
ВЧ-магнетронным распылением.
Представлены результаты исследований влияния магнитного
поля на коэффициент трения тонкопленочного твердосмазочного покрытия
на основе WS2, формируемого ВЧ-магнетронным методом.
И.Х.Азымов, Е.В.Булыгина, О.С.Яицкая. Исследование
механических свойств
тонких пленок с помощью искусственных нейронных сетей.
Показана возможность использования искусственных нейронных
сетей для исследования механических свойств тонких пленок. Приведены
результаты испытаний пленок на износ с целью подготовки набора данных
для обучения нейросети.
А.Г.Шарин, М.В.Рыжов, Л.П.Батюня, А.А.Раскин.
Магнетронное напыление и
исследование свойств ВТСП пленок на буферных слоях ЦТС
В работе выявлено, что пленки Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-O с высокотемпературными
сверхпроводящими свойствами можно получить только на ненагретых подложках
с подслоями цирконата-титаната свинца, напыленных также при комнатной
температуре, с последующим отжигом не менее 16 часов при температуре
850°С.
А.Е.Батохин, В.Ф.Кобзиев, П.Н.Крылов. Фоточувствительные
пленки GaAs.
Приведены результаты исследования люксамперных, люксвольтовых,
вольтамперных характеристик и фотопроводимости косонапыленных пленок
GaAs. Величина фотонапряжения составила 180 В при угле между направлением
молекулярного пучка и нормалью к подложке 50°. Полученные результаты
объяснены появлением наклонной оси текстуры в процессе роста пленки.
С.С.Алалыкин, В.В.Бесогонов, П.Н.Крылов. Изучение
свойств наноразмерных мультислоёв Co - (Cu, Ag).
Методом магнетронного напыления изготовлены образцы
мультислойных структур на основе кобальта-меди и кобальта-серебра.
Проведены исследования эффектов Холла, Керра и магниторезистивного
эффекта. При толщинах Co, Cu, Ag 45 А, 30 А, 30 А соответственно наблюдается
существенное увеличение рассматриваемых эффектов.
С.С.Алалыкин, В.В.Бесогонов, В.М.Ветошкин, П.Н.Крылов.
Получение и изучение свойств металлических мультислоёв тонких плёнок.
Изготовлены образцы мультислойных структур на основе
Fe - Cr, FeNi - Cr и FeNi - Ag. Исследованы магниторезистивный эффект,
эффект Холла и экваториальный эффект Керра. Выявлено, что в данных
пленках имеется магниторезистивный эффект, увеличивающийся с ростом
количества пар слоев. При этом наблюдается увеличение эффекта при
возрастании толщины магнитных прослоек. Отмечено увеличение Э.Д.С.
Холла и экваториального эффекта Керра с ростом количества пар слоев.
Е.В.Булыгина, С.Ю.Даценко. Использование пылевой
плазмы в технологии тонких пленок.
Показана возможность использования частиц наноразмеров
в технологии тонких пленок. Расмотрены перспективы применения "пылевой"
плазмы для формирования новых материалов и модификации поверхностей.
Г.Е.Адамов. Влияние парафенилендиамина на
фотохромные свойства пленок бактериродопсина.
Исследовано влияние парафенилендиамина на фотохромные
свойства пленок на основе бактериородопсина. Парафенилендиамин применялся
для стабилизации первоначально образующейся структуры образцов. Стабилизация
была достигнута в течение 12 суток после получения пленок.
[1]
[2]
|
|