Международная научно-техническая конференция

"ВЫСОКИЕ ТЕХНОЛОГИИ В ПРОМЫШЛЕННОСТИ РОССИИ"

ИСТОРИЯ ПРОВЕДЕНИЯ МЕЖДУНАРОДНЫХ КОНФЕРЕНЦИЙ "ВЫСОКИЕ ТЕХНОЛОГИИ В ПРОМЫШЛЕННОСТИ РОССИИ"

страница 1

В сентябре 2004 года в Открытом акционерном обществе Центральный научно-исследовательский технологический институт "Техномаш", Москва (ОАО ЦНИТИ "Техномаш") прошла десятая научно-техническая конференция "Высокие технологии в промышленности России". Проведение ежегодных научных встреч на такую тематику связано с необходимостью обмена опытом в области электронных и нанотехнологий. Организатором конференций выступило ОАО ЦНИТИ "Техномаш". Базовыми научными структурами для проведения конференций были выбраны Центр перспективных технологий ОАО ЦНИТИ "Техномаш", кафедра аналитической химии химического факультета Московского государственного университета им. М.В.Ломоносова (МГУ им. М.В.Ломоносова) и кафедра электронных технологий в машиностроении Московского государственного технического университета им. Н.Э.Баумана (МГТУ им. Н.Э.Баумана).

Начало работы конференций положило совещание по электронным технологиям, системам, коммуникациям и сетям, проведенное в ОАО ЦНИТИ "Техномаш" в 1995 г., после которого был издан сборник трудов совещания (М. 1995. 48 с.). С 1996 г. конференции проводятся ежегодно (в 1997 г. было проведено две конференции). На первой конференции, которая состоялась в мае 1996 г. и называлась "Высокие электронные технологии в народном хозяйстве", было сделано 42 доклада. Оргкомитет конференции принял решение расширить круг рассматриваемых вопросов, и конференция получила свое окончательное название - "Высокие технологии в промышленности России". Тогда и было решено проводить конференции поочередно в ОАО ЦНИТИ "Техномаш", МГУ им. М.В.Ломоносова и МГТУ им. Н.Э.Баумана.

Целью проведения конференций была координация работ в области микроэлектронной аппаратуры, перспективных процессов получения и областей применения пленок, слоистых и наноструктур различных материалов. Отдельно ставилась цель - обсуждение современного состояния работ по синтезу, изучению строения, свойств и применению пленок алмаза и алмазоподобного углерода.

В 1996-1997 гг. конференции назывались российские, но в связи с увеличением числа представителей ближнего и дальнего зарубежья, данное название не отражало действительности и в 1997-1998 гг. конференции стали называться российские с участием зарубежных специалистов, а с 1999 г. встречу ученых определили как международную. Научные конференции "Высокие технологии в промышленности России" состоялись: в 1996, 1997, 2000 и 2002-2004 гг. - в ОАО ЦНИТИ "Техномаш" (сопредседатели местного организационного комитета - генеральный директор ОАО ЦНИТИ "Техномаш", д-р техн. наук, профессор В.Д.Житковский и зам. генерального директора по научной работе В.В.Жиликов); в 1997 и 1999 гг. - в МГТУ им. Н.Э.Баумана (председатель местного организационного комитета - руководитель научно-учебного комплекса "Машиностроительные технологии", д-р техн. наук, профессор Л.Г.Колесников); в 1998 и 2001 гг. - в МГУ им. М.В.Ломоносова (председатель местного организационного комитета - академик РАН В.В.Лунин).

Большой вклад в разные годы в организацию работы конференций внесли: зав. лабораторией физики и технологии тонких пленок Института микроэлектроники и информатики РАН, канд. физ-мат. наук В.Ф.Бочкарев; доцент МГТУ им. Н.Э.Баумана, канд. техн. наук Е.В.Булыгина; профессор кафедры конструирования радиоэлектронной аппаратуры Московского авиационно-технологического института (технический университет) им. К.Э.Циолковского (МАТИ им. К.Э.Циолковского), д-р техн. наук В.М.Елинсон; зав. лабораторией электрохимических методов анализа кафедры аналитической химии химического факультета МГУ им. М.В.Ломоносова, канд. хим. наук А.И.Каменев; научный сотрудник Института нефтехимического синтеза РАН, канд. хим. наук К.А.Ковальский; директор Центра естественно-научных исследований Института общей физики РАН, член-корреспондент РАН В.И.Конов; доцент кафедры электронных приборов и устройств Национального технического университета Украины Киевский политехнический институт, канд. техн. наук А.И. Кузьмичев; главный научный сотрудник Научно-исследовательского института механики МГУ им. М.В.Ломоносова, д-р техн. наук, профессор Л.И.Миркин; зам. Генерального директора ГУП НИИВТ им. С.А.Векшинского, д-р техн. наук, профессор С.Б.Нестеров; заведующий кафедрой МГТУ им. Н.Э.Баумана, д-р техн. наук, профессор Ю.В.Панфилов; старший научный сотрудник лаборатории ионно-плазменной технологии и вакуумных процессов ОАО ЦНИТИ "Техномаш", канд. техн. наук П.В.Пащенко; зав. лабораторией кристаллизации алмазных покрытий Института физической химии РАН (Москва), д-р хим. наук Б.В.Спицын; доцент кафедры конструирования и производства радиоаппаратуры Марийского государственного технического университета (Йошкар-Ола), канд. техн. наук Н.И.Сушенцов; зав. отделом физических проблем при Президиуме Бурятского научного центра СО РАН (Улан-Удэ), заслуженный деятель науки и техники России, д-р техн. наук, профессор А.П.Семенов; профессор Рыбинской государственной авиационно-технологической академии, д-р техн. наук Э.И.Семенов; главный научный сотрудник НПО "Орион" д-р физ-мат. наук, профессор В.И.Стафеев; главный специалист отдела микроэлектроники Нучно-исследовательского института ядерной физики МГУ им. М.В.Ломоносова, д-р физ-мат. наук В.Н.Суетин; заведующий кафедрой МГУ им. М.В.Ломоносова, академик РАН В.С.Урусов; директор Института химии силикатов РАН, академик РАН В.Я.Шевченко: зам. генерального директора Национального научного центра Харьковский физико-технический институт НАН Украины, директор опытного производства, профессор В.М.Шулаев; зав. отделом ГНУ Институт тепло- и массообмена НАН Беларуси, профессор Э.М.Шпилевский.

Представленные на конференции доклады публикуются в сборниках статей, выпускаемых к началу работы конференций, а с 2003 года пленарные доклады выпускаются в форме коллективных монографий. За прошедшие годы статьи поступили более чем из 100 организаций России и стран ближнего и дальнего зарубежья. Опубликованы доклады ученых Австралии, Азербайджана, Беларуси, Бразилии, Германии, Казахстана, Польши, России, США, Украины и Японии. Россию и страны ближнего зарубежья представляли научно-исследовательские организации Александрова, Алма-Аты, Баку, Березняков, Воронежа, Гродно, Екатеринбурга, Житомира, Зеленограда, Иванова, Ижевска, Йошкар-Олы, Калининграда, Киева, Коврова, Королева, Минска, Москвы, Нижнего Новгорода, Нижнего Тагила, Новосибирска, Обнинска, Пензы, Рыбинска, Рязани, Санкт-Петербурга, Ставрополя, Сыктывкара, Томска, Троицка, Улан-Удэ, Фрязина, Харькова, Черновцов, Черноголовки и Ярославля.

На десяти прошедших конференциях сделано более 700 докладов, причем свыше 500 по наиболее актуальным темам, содержащим результаты, обладающие научной новизной, опубликованы в 13 томах трудов конференций. Издание трудов конференций осуществлялось за счет средств ОАО ЦНИТИ "Техномаш" при частичной поддержке МГТУ им. Н.Э.Баумана. Материалы конференций издавались также в Приложении № 7 "Электронные, ионные и плазменные технологии" к инженерному журналу "Справочник". (М.: Машиностроение. 2000. № 7. Отв. редактор приложения - зав. кафедры электронные технологии в машиностроении МГТУ им. Н.Э.Баумана, д-р техн. наук, профессор Ю.В.Панфилов); журнале "Системы и средства связи, телевидения и радиовещания" - научно-технический журнал (организатор публикаций - член редколлегии журнала, ген. директор ОАО ЦНИТИ "Техномаш", д-р техн. наук, профессор В.Д.Житковский).

За прошедшие годы достигнуты значительные успехи в науке и технике и накопилось большое количество интересных материалов. Для конференций характерна постепенная тенденция расширения и углубления специализации представленных работ и географии заинтересованных организаций.

Тематика конференций определялась на заседаниях программного комитета. В изданных за прошедшие годы сборниках статей представлены работы по следующим направлениям:

- Электронные технологии в машиностроении.
- Развитие и применение перспективных методов получения и обработки тонких пленок. Конструирование оборудования для получения тонких пленок.
- Нанотехнологии и фотонные кристаллы.
- Материалы, оборудование и технологии наноэлектроники и нанофотоники.
- Наноструктурированные материалы и фотонные кристаллы в оптоэлектронике, медицине и оптическом приборостроении.
- Пленки нитридов, углеродные пленки.
- Получение и свойства тонких пленок. Исследование технологических процессов и параметров оборудования для формирования тонких (в том числе эпитаксиальных) пленок.
- Применение тонкопленочных изделий в электронике, машиностроении, медицине.
- Формирование и обработка материалов на различных этапах изготовления изделий электронной техники.
- Получение, обработка и исследование материалов.
- Электрохимическая аппаратура для аналитических исследований. Аналитические методы и контрольно-измерительная аппаратура в электрохимическом анализе.
- Аналитические методы в электронной технике.
- Методы контроля свойств и параметров, измерительная аппаратура.
- Новые технологии производства радиоэлектронной аппаратуры.
- Новые технологии производства, обработки и исследования наноматериалов.
- Исследования эксплуатационных характеристик устройств радиотехники.
- Системы и устройства радиотехники и средств связи.
- Микроэлектромеханические системы в медицине и промышленности.
- Технологии, оборудование и системы управления в электронном машиностроении.
- Моделирование и информационное обеспечение исследований. Информационное обеспечение в разработках.

В возглавляемых участниками конференций лабораториях ведутся разработки новых технологических процессов и оборудования для получения пленок различных перспективных в приборостроении материалов. Конструируются и производятся промышленные и лабораторные установки для осаждения и выращивания пленок, укомплектованные запатентованными разработчиками оригинальными устройствами. В промышленном масштабе освоено производство установок, позволяющих выращивать по нетангенциальному механизму сильнотекстурированные пленки диэлектрических материалов, а также легировать пленки различными химическими элементами в процессе их выращивания. Созданные технологические процессы и оборудование для их реализации позволяют произвольно кристаллографически ориентировать пленки относительно подложек, что значительно расширяет диапазон параметров устройств, изготавливаемых на их основе. По оценкам экспертов объем производства и продажи оборудования и технологии формирования тонких пленок методами распыления через несколько лет составит 200-250 млн. рублей. В рамках проводимых исследований в области технологии широкозонных полупроводников в перспективе возможен выход на внешний рынок. Пленки различных материалов, выращенные по разработанным технологиям, позволяют конструировать принципиально новые приборы и устройства. С использованием вновь созданного и серийного оборудования и технологических процессов разрабатываются и изготавливаются ГИС с повышенным ресурсом (многокристальные модули, устройства термопечати и акустоэлектроники, микросхемы на основе высокотемпературных сверхпроводников, СВЧ-микросхемы и др.).

[1] [2] [3] [Фото]