VIII
конференция |
[Раздел
I] [Раздел II] [Раздел
III] [Раздел IV]
Раздел I. Тонкие пленки в электронике
А.И.Зубков, А.И.Ильинский, В.С.Коган,
В.М.Шулаев, О.А.Подгорная, А.В.Субботин. Дисперсноупрочненные субмикрокристаллические
композиционные вакуумные конденсаты на основе меди.
Вакуумной конденсацией на ситалловые подложки двухкомпонентных
паровых смесей на основе меди, легированных тугоплавким металлом (Mo,
W, Ta), получены субмикрокристаллические (СМК) композитные фольги.
Методами рентгендифрактометрии, электронографии, просвечивающей электронный
микроскопии исследована структура. Концентрация легирующих элементов
определена рентгенфлуоресцентным спектральным анализом. Измерены механические
свойства и электросопротивление СМК-композитов. Обнаружен пик дисперсионного
твердения в процессе термообработки.
В.В.Дворкин, Н.Н.Дзбановский, В.В.Сень, Н.В.Суетин.
Масштабируемая многомагнетронная установка для осаждения тонких пленок
из газовой фазы СВЧ разряда.
Предлагается новый подход к решению проблемы роста
тонких плёнок на больших (более 15 см. в диаметре) поверхностях. Разработан
метод создания масштабируемого плазменного реактора для получения
тонких пленок большого размера из газовой фазы СВЧ разряда, возбуждаемого
системой последовательно запускаемых магнетронов. Каждый магнетрон
зажигает разряд на своей части поверхности. Увеличивая число магнетронов,
возможно получить слой плазмы на необходимой площади, что является
необходимым условием роста однородных тонких плёнок. На созданной
установке продемонстрирована возможность создания однородной плазмы
на площади диаметром 25 см.
В.В.Наумов, В.Ф.Бочкарев, А.А.Горячев, А.С.Куницын.
Исследование влияния ионной бомбардировки на рост плёнок ниобия.
Исследовано влияние ионной бомбардировки в процессе
роста пленок ниобия на их кристаллическую структуру. Пленки получены
ВЧ магнетронным распылением, ионная бомбардировка осуществлялась перпендикулярно
поверхности подложки за счет подачи на подложку отрицательного напряжения
смещения. Показано, что при росте ниобия на аморфной подложке с одновременной
ионной бомбардировкой в пленке формируется аксиальная текстура (110).
Степень кристалличности возрастает с ростом смещения от 0 до -50 В
и ухудшается с дальнейшим ростом смещения. Установлено, что использование
смещения при росте Nb на подложках Al2O3 нагретых до температуры 500ОС
приводит к образованию двухосевой текстуры (110), в то время как без
смещения пленки растут поликристаллическими.
О.А.Петрова, Н.В.Каледенкова, В.В.Зайцев.
Электрофизические свойства тонких пленок упорядоченных фосфолипидов.
В результате работы установлено влияние поверхностных
свойств подложки на электропроводность жидкокристаллической системы
- водного раствора лецитина. Показана связь структурируемости с электрическими
характеристиками жидкого кристалла. Установленно наличие электродинамической
неустойчивости в исследуемом жидком кристалле при определенных условиях.
Е.В.Булыгина, А.В.Осипов, Ю.В.Панфилов. Исследование
микротвёрдости
многослойных плёнок нанометровой толщины.
Представлены результаты экспериментальных исследований
механических свойств сверхтонких пленок Al, Cu, Ti, Nb, сформированных
на алюминиевой основе методами термического и дугового испарения.
Получены экспериментальные значения твердости композиций Al-Al, Al-Cu,
Al-Ti, Al-Nb для различных толщин пленок и расчетные значения твердости
нанопленок.
|
|